COMPANY INTRODUCTION

172NM VUV CREATER INTRODUCTION

NO SEMICONDUCTORFAB

半導体級CLEANROOM工程環境ではない一般研究室でもMin 500nm幅のPHOTOLITHOGRAPHYを実現することができます。

NO PHOTORESIST

Photoresistが不要なプロセス実現
DRY DEVELOP 工程なしにMASKだけ必要なパターニングプロセス

NO PROCESS ENGINEER

半導体エンジニアを介さずに
誰でもLITHOGRAPHYができる

172NM会社紹介

172NMは優れた均等度と高出力172nm長方形VUVマイクロプラズマ光源を使用して、R&D及び製造生産ラインに適用可能な、フォトレジストが不要なPhotolithography Solutionを提供します。

私たちはCleanroom工程環境でない一般研究室でもPEDOT、PMMA、PETなどのようなさまざまな有機物質の最小500nm幅のPhotolithographyを実現します。

半導体工程の運営およびメンテナンスのための時間と費用をなくし,お客様の研究開発とプロジェクトにのみ集中できます。

172
WAVELENGTH VUV
200
mW/㎠効率
500
nmパターニング
0
PHOTORESISTが必要ない。

FIELD OF APPLICATION

172NM business area.

PRが必要ないPHOTOLITHOGRAPHY

革新的なPR freeのminimum 500nm Patternが可能なphotolithography

有機物光アブレーション

PMMA PEDOT PDMS PVC ポリイミドなどほとんどの有機物パターニング

容易に実装可能なマイクロパターニング

π2-CYGNIを使用して Cleanroom工程環境ではない一般研究室でパターニング。

高効率の表面洗浄

200mW/㎠の高効率マイクロプラズマ
表面処理

マイクロフルイディックス & バイオチップ

製作が容易なマイクロフルイディックス
バイオスタンプパターニング

パウンドリサービス

多様な設計と製品に適用できる
パターニングパウンドリサービス

ニュースおよびお知らせ

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