• 半導体ファブなし
    誰もが書道を行うことができます
  • 写真家なし
    フォトレジストなし、ベーキングなし、現像プロセスなし、
    リソグラフィのマスクのみ必要
  • プロセスエンジニアなし
    半導体エンジニアの支援なし
    誰でもリトグラフを行うことができます

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  • π2-CYGNI
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  • 172NM provides successful photoresisit
    free photolithography for R&D and production line with high uniformity and high power 172nm rectangular VUV micro plasma light source.
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