公司介绍

172NM VUV CREATER INTRODUCTION

NO SEMICONDUCTOR FAB

此产品不适用于半导体企业无尘室,而是适用
于一般研究室进行500nm线宽的投影光刻.

NO PHOTORESIST

可以实现不需要光刻胶的工艺适用于无需
DRY DEVELOP工艺只需要进行MASK分割工艺

NO PROCESS ENGINEER

是不需要半导体工艺工程师的协助
就可以进行投影光刻的最佳解决方法

172NM 公司介绍

172NM的高均匀性、大功率以及172NM矩形VUV微等离子体光源为研发和生产线提供了成功的无光阻光刻技术。

我们帮助各种有机材料,如PEDOT、PMMA、PET等,在不使用半导体晶圆的情况下可以实现最小500nm光刻。

可以最大程度的减少半导体工艺以及维护上的时间和费用,可以让客户尽可能的将精力集中于研发

产品介绍

推出172nm产品。

172
WAVELENGTH VUV
200
mW/㎠ EFFICIENCY
500
nm PATTERNING
0
NO PHOTORESIST

业务领域

172NM业务领域。

无需光刻胶的投影光刻

具有开创性的无需光刻胶的光刻技术

有机材料光切割

适用于大多数有机物如有机玻璃
PEDOT PDMS PVC 聚酰亚胺等

非常简便的微离子模式

使用π2-CYGNI可以在非半导体环境的研究室

高效表面清洁

表面处理采用高效的200mw/cm2
等离子体进行表面清洁

微流体及生物芯片

简单的微流体或生物样本

光刻服务

可为各种设计提供
光刻服务和产品

新闻和公告

172nm新闻和公告

172NM 经销商

Beijing Huahe Technology Co., Ltd

北京华贺技术有限公司

Room2313-2315, Building E2,
12 Yumin Road, Chaoyang District, Beijing, 100029, China

北京市朝阳区裕民路12号元辰鑫大厦E2313-2315室

Tel:8610-53326395, 82067780

Contact:Bill Fu

Email: bill.fu@testrend.com

Web: www.testrend.com

技术资料

172nm技术资料

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